DNP versnelt ontwikkeling van fotomaskerproductie voor 2nm-generatie EUV-lithografie

– Neemt deel aan NEDO O&O-project als onderaannemer van Rapidus –

TOKIO–(BUSINESS WIRE)– Dai Nippon Printing Co., Ltd. (DNP, TOKIO: 7912) is begonnen met de ontwikkeling van een fotomasker voor de productie van 2-nanometer (10-9 meter) generatie logische halfgeleiders. Dit masker ondersteunt Extreme Ultra Violet (EUV) lithografie, het geavanceerde proces voor de productie van halfgeleiders.

Dit persbericht bevat multimedia. Bekijk hier het volledige persbericht: https://www.businesswire.com/news/home/20240319746160/nl/

Image of EUV lithography with pellicle, a protective film for the photomask (Photo: Business Wire)

DNP zal ook optreden als onderaannemer en de nieuw ontwikkelde technologie leveren aan Rapidus Corporation (Rapidus) uit Tokio. Rapidus neemt deel aan het onderzoeks- en ontwikkelingsproject Enhanced Infrastructures for post-5G informatie- en communicatiesystemen van de New Energy and Industrial Technology Development Organization (NEDO).

Deze bekendmaking is officieel geldend in de originele brontaal. Vertalingen zijn slechts als leeshulp bedoeld en moeten worden vergeleken met de tekst in de brontaal, die als enige rechtsgeldig is.

Bekijk het oorspronkelijke bericht op businesswire.com: https://www.businesswire.com/news/home/20240319746160/nl/

Contacts

Mediacontact
DNP: Yusuke Kitagawa, +81-3-6735-0101

kitagawa-y3@mail.dnp.co.jp